真空化學氣相沉積工藝(Chemical Vapor Deposition,英文簡稱CVD), 俗稱：真空氣相鍍膜，納米鍍膜或派瑞林鍍膜。是一種把含有構成薄膜元素的長鏈性高分子材料（派瑞林Parylene等）、單質氣體經過升華、熱解后進入放置產品的真空反應室，借助空間氣相化學反應并在產品表面上沉積生成的0.1-100um薄膜涂層的工藝技術。薄膜涂層厚度均勻，致密無針孔、透明無應力、不含助劑、不損傷產品、有優異的電絕緣性和防護性，是當代最有效的防潮、防霉、防腐、防鹽霧涂層材料。   

CVD化學氣相沉積流程

隨著時代的發展，電子產品技術的不斷革新。高新技術與智能化的發展，精密的電子設備元件需要適應各種惡劣的工作環境，達到工業對其更高的要求：高可靠，小型化，抗干擾等等。因此，電子零部件的環境適應性和防護力就成了重中之重。

LPMS為適應現有市場需求, 通過開發創新，成功的將派瑞林鍍膜技術運用到電子產品行業。我們在材料、工藝和設備方面的專有技術使我們能夠為客戶帶來高質量的超薄與納米級保形涂層，其成就在行業得到認可。